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MoO3-Cu2O/CN三相复合光催化剂的制备及其降解四环素性能

崔春丽, 郝振华, 舒永春, 徐继香, 王磊

崔春丽, 郝振华, 舒永春, 等. MoO3-Cu2O/CN三相复合光催化剂的制备及其降解四环素性能[J]. 复合材料学报, 2025, 42(3): 1361-1374. DOI: 10.13801/j.cnki.fhclxb.20240619.001
引用本文: 崔春丽, 郝振华, 舒永春, 等. MoO3-Cu2O/CN三相复合光催化剂的制备及其降解四环素性能[J]. 复合材料学报, 2025, 42(3): 1361-1374. DOI: 10.13801/j.cnki.fhclxb.20240619.001
CUI Chunli, HAO Zhenhua, SHU Yongchun, et al. Preparation and tetracycline degradation performance of MoO3-Cu2O/CN ternary photocatalyst[J]. Acta Materiae Compositae Sinica, 2025, 42(3): 1361-1374. DOI: 10.13801/j.cnki.fhclxb.20240619.001
Citation: CUI Chunli, HAO Zhenhua, SHU Yongchun, et al. Preparation and tetracycline degradation performance of MoO3-Cu2O/CN ternary photocatalyst[J]. Acta Materiae Compositae Sinica, 2025, 42(3): 1361-1374. DOI: 10.13801/j.cnki.fhclxb.20240619.001

MoO3-Cu2O/CN三相复合光催化剂的制备及其降解四环素性能

基金项目: 中原关键实验室项目(GJJSGFYQ202302;GJJSGFZD202303)
详细信息
    通讯作者:

    郝振华,博士,副教授,硕士生导师,研究方向等离子球化、特种粉体材料、金属3D打印 E-mail: zh_hao@zzu.edu.cn

  • 中图分类号: TB331

Preparation and tetracycline degradation performance of MoO3-Cu2O/CN ternary photocatalyst

Funds: Project of Zhongyuan Critical Metals Laboratory (GJJSGFYQ202302; GJJSGFZD202303)
  • 摘要:

    本文通过水热法先在g-C3N4 (CN)上原位生长MoO3,继而在其表面电沉积Cu2O构建了MoO3-Cu2O/CN三相复合光催化剂。采用XRD、SEM、TEM、XPS和FTIR等手段对催化剂进行表征,证明了复合光催化剂的成功制备。以四环素为目标污染物,探究了所制备光催化剂对四环素的降解效果及光催化剂的作用机制。结果表明,在可见光下,1.5 MoO3-Cu2O-100/CN复合材料对四环素的降解效果最佳,150 min时降解率为97.75%,分别是CN(45.28%)和1.5 MoO3/CN(63.24%)的2.2和1.5倍。采用自由基捕获实验及电子顺磁共振光谱(EPR)对机制进行了探究,证实了羟基自由基(•OH)和超氧自由基(•O2)是光催化过程的主要活性物质。综合各项测试计算 CN、MoO3 和Cu2O 的价带和导带位置,表明三相复合光催化剂形成了双Z型异质结。同时光催化活性的提高主要归因于双Z机制的构建,拓宽了可见光吸收范围,保留了氧化还原能力较高的空穴电子,降低了光生电子与空穴的复合率。稳定性实验结果表明制备的催化剂在经过4次循环后,对四环素的降解率仍达到90%以上,具有优异的稳定性,可循环使用。

     

    Abstract:

    In this paper, MoO3 was in-situ grown on g-C3N4 (CN) by hydrothermal method, followed by the electrodeposition of Cu2O to construct a ternary MoO3-Cu2O/CN composite photocatalyst. The catalyst was characterized by XRD, SEM, TEM, XPS and FTIR, which proved the successful preparation of the composite photocatalyst. Taking tetracycline as the target pollutant, the degradation effect of the prepared photocatalyst on tetracycline and the action mechanism of the photocatalyst were investigated. The results showed that 1.5 MoO3-Cu2O-100/CN composite had the best degradation effect of tetracycline at 150 min under visible light, up to 97.75%. They are 2.2 and 1.5 times of CN (45.28%) and 1.5 MoO3/CN (63.24%) respectively. The mechanism was investigated by free radical capture experiment and electron paramagnetic resonance spectroscopy (EPR). It was confirmed that hydroxyl radical (•OH) and superoxide radical (•O2) were the main active substances in the photocatalytic process. The valence band and conduction band positions of CN, MoO3, and Cu2O are calculated based on various tests. It is shown that the double Z-type heterojunction is formed by the ternary composite photocatalyst. At the same time, the improvement of photocatalytic activity is mainly due to the construction of double Z mechanism, which widens the visible light absorption range, retains the hole electrons with high REDOX ability, and reduces the recombination rate of photogenerated electrons and holes. The results of stability test show that the catalytic degradation rate of tetracycline is still over 90% after four cycles, which has excellent stability and can be recycled. The results of stability test show that the catalytic degradation rate of tetracycline is still over 90% after four cycles, which has excellent stability and can be recycled.

     

  • 近年来随着工业的快速发展,水污染问题受到越来越多的关注。其中的一部分污染是由抗生素引起的,如阿莫西林、青霉素、四环素等[1-5]。四环素(Tetracycline,TC)作为一种普遍使用的抗生素,因其独特的抗菌作用而被广泛应用于人类疾病的治疗。然而TC长期存在于水环境中难以自然降解,对生态环境和人类健康有很大危害[6-10]。因此,开发一种有效的解决方案来去除水环境中难降解的抗生素是极其重要的。半导体光催化技术因其具有环境友好、无污染、低能耗等优点引起了广泛的研究,成为当今处理有机污染物最有前景的方法之一[11-13]

    在各种光催化剂中,BiOX(X=Cl, Br, I)因其特殊的层状结构、适宜的禁带宽度和较高的稳定性,被广泛用于光降解有机污染物和光催化分解水[14-15]。其中BiOI具有较窄的禁带宽度(1.77~1.92 eV)和较宽的可见光响应范围,但由于光生电子空穴对的高复合率,其光催化性能并不理想。将BiOI与其他半导体材料相结合被认为是增强光催化性能最有前途的策略,2个或2个以上半导体相结合可以形成半导体/半导体异质结,通过提高光生电子空穴对的分离速率从而提高光催化活性。

    Bi2O3的带隙介于2.1~2.8 eV之间,由于其具有较强的可见光区响应、无毒、电化学稳定性高、热稳定性好和低成本等特性[16-18],是一种很有前途的可见光光催化候选材料,可与其他半导体材料形成异质结结构。如CdS/BiOCl/Bi2O3[19]、GO/AgI/Bi2O3[20]、α-Bi2O3/g-C3N4[21]、Bi2O3/ZnS[22]等。

    Wei等[23]采用一锅沉淀法在多孔Bi2O3纳米棒上成功沉积了BiOI纳米片。结果表明:与原始Bi2O3和BiOI相比,50% Bi2O3/BiOI复合材料具有更高的光生电子空穴对分离效率和更大的比表面积,在可见光照射下,其光催化还原Cr(VI)的活性显著增强。此外,50% Bi2O3/BiOI复合材料还具有优异的光化学稳定性和可回收性。Li等[24]采用化学刻蚀法制备了BiOI/Bi2O3异质结,在降解苯酚和4-氯苯酚(4-CP)方面表现出良好的光催化活性。其光催化性能的提高是由于BiOI/Bi2O3异质结的形成促进了电子空穴对的有效分离,并提出了光生电荷转移的过程。

    目前所制备的同类光催化剂大多数用于去除水环境中的重金属离子和有机染料等,对降解抗生素类药物的研究较少。本文采用简单的溶剂热法制备了Bi2O3/BiOI复合光催化材料,在模拟太阳光照射下通过降解四环素研究了其光催化性能,探究了BiOI与Bi2O3不同摩尔比、反应温度、反应时间、pH等条件对光催化性能的影响。并通过活性物种捕捉实验提出了Bi2O3/BiOI复合光催化材料降解四环素可能的机制。

    五水硝酸铋(上海麦克林生化有限公司,AR)、碘化钾(天津市大茂化学试剂厂,AR)、乙二醇(天津市北辰方正试剂厂,AR)、四环素(上海麦克林生化有限公司,AR)。

    EL104型电子天平(梅特勒-托利多有限公司)、HC-3018型高速离心机(安徽中科中佳科学仪器有限公司)、TGL-5A台式离心机(常州润华电器有限公司)、KSW-4D-I2型马弗炉(北京中兴伟业仪器有限公司)、HJ-1型磁力加热搅拌器(红杉实验设备厂)、101-1A型电热鼓风干燥箱(北京中兴伟业仪器有限公司)、721型可见分光光度计(上海仪电分析仪器有限公司)、KQ5200E型超声波清洗器(昆山市超声仪器有限公司)、250 W金卤灯(上海亚明)。

    称取1 mmol五水硝酸铋置于15 mL乙二醇中,超声处理15 min以获得均匀悬浮液。在不断搅拌下向其中逐滴加入10 mL含1 mmol碘化钾的水溶液,继续搅拌2 h。将产物离心,用水和无水乙醇洗涤数次,在80℃下干燥12 h得到红色的BiOI。

    称取一定量的五水硝酸铋,在600℃的马弗炉里煅烧4 h,冷却至室温后,将产物研磨成粉末状,得到淡黄色的Bi2O3

    将1 mmol五水硝酸铋置于15 mL乙二醇中,超声处理15 min以获得均匀悬浮液。在不断搅拌下向其中逐滴加入10 mL含1 mmol碘化钾的水溶液,继续搅拌2 h。在此期间,用1 mol/L的H2SO4溶液将混合液的pH调至5。然后向上述溶液中加入0.8 mmol已制备好的Bi2O3,继续搅拌1 h。将得到的混合溶液转移至50 mL聚四氟乙烯内衬的不锈钢高压反应釜中,在180℃下反应20 h。自然冷却至室温后,将产物离心,用水和无水乙醇洗涤数次,在80℃下干燥12 h,得到Bi2O3/BiOI复合光催化材料。

    使用250 W金卤灯模拟太阳光照射,通过降解四环素来评价所制备样品的光催化性能。取50 mg制得的光催化材料放入装有100 mL 25 mg/L TC溶液的烧杯中,黑暗搅拌30 min达到吸附-脱附平衡。然后将混合液置于光反应器中,光照开始计时,每隔20 min取3 mL样,将样品放入离心机中离心取其上层清液并测定吸光度。计算四环素的残余率:

    η=C/C0×100%=A/A0×100%

    式中:CC0分别表示t时刻和初始四环素的质量浓度(mg·L−1);AA0分别表示t时刻和初始四环素的吸光度。

    BiOI、Bi2O3和Bi2O3/BiOI的XRD图谱如图1所示。BiOI曲线在9.658°、29.645°、31.657°、37.392°、45.666°、51.345°、55.15°、66.344°和74.09°处出现的衍射峰分别对应BiOI(JCPDS 10-0445)的(001)、(102)、(110)、(112)、(104)、(114)、(212)、(214)和(302)晶面。Bi2O3在21.722°、25.757°、27.377°、33.241°、35.406°、37.595°、42.353°、46.305°、52.373°和58.563°处出现的衍射峰分别对应Bi2O3(JCPDS 41-1449)的(020)、(002)、(120)、(200)、(031)、(112)、(122)、(041)、(−321)和(−331)晶面。Bi2O3/BiOI同时出现了Bi2O3和BiOI的主要衍射峰,说明本实验成功制备了Bi2O3/BiOI复合光催化材料。

    图  1  不同光催化材料的XRD图谱
    Figure  1.  XRD patterns of different photocatalytic materials

    通过SEM分析了所制备光催化材料的微观形貌,结果如图2所示。可以看出,所制备的BiOI是由纳米片自组装形成的花状微球;单一Bi2O3呈现出不同尺寸、不规则的块状结构。从图2(c)可以看出,当BiOI与Bi2O3复合后,块状Bi2O3均匀分散在花状微球的BiOI表面。

    图  2  不同光催化材料的SEM图像
    Figure  2.  SEM images of different photocatalytic materials

    样品的FTIR图谱如图3所示。499 cm−1和760 cm−1处是BiOI的特征吸收峰,1617 cm−1处的吸收峰对应Bi2O3中Bi—O键的弯曲振动,再次表明BiOI和Bi2O3成功复合在一起。

    图  3  Bi2O3/BiOI复合光催化材料的FTIR图谱
    Figure  3.  FTIR spectra of Bi2O3/BiOI composite photocatalytic material

    利用UV-Vis DRS分析了所制备样品的光学吸收性能,如图4所示。可以看出,纯BiOI的吸收边缘位于681 nm处,纯Bi2O3的吸收边缘位于477 nm,Bi2O3/BiOI复合光催化材料的光吸收边缘位于617 nm。与纯BiOI相比,Bi2O3/BiOI复合光催化材料的光吸收边缘有轻微的蓝移,这是由于与Bi2O3耦合造成的,但其光吸收范围仍然很宽。

    图  4  不同光催化材料的紫外漫反射图谱
    Figure  4.  UV-Vis DRS of different photocatalytic materials

    不同光催化材料的紫外漫反射(αhv)1/2-hv转换图如图5所示。根据Kubelka-Munk公式,纯BiOI、Bi2O3和Bi2O3/BiOI对应的禁带宽度Eg值分别为1.82 eV、2.60 eV和2.01 eV。

    图  5  不同光催化材料的禁带宽度
    Figure  5.  Band gaps of different photocatalytic materials

    利用荧光强度来分析光生电子空穴对的复合速率,荧光强度越小,则光生电子复合速率越低,图6为不同光催化材料的荧光光谱。可以看出,在520 nm处,Bi2O3/BiOI的荧光强度低于单一BiOI和Bi2O3,表明复合光催化材料的光生电子空穴对复合速率最低,光催化活性最高。

    图  6  不同光催化材料的荧光光谱图
    Figure  6.  Fluorescence spectroscopy of different photocatalytic materials

    通过电化学阻抗法研究了不同光催化材料的电荷转移效率,结果如图7所示。Bi2O3/BiOI的圆弧半径小于单一BiOI和Bi2O3,说明其电荷转移电阻较低,电导率增强。电化学阻抗图表明Bi2O3/BiOI能增强光生电子空穴对的电荷转移能力,提高其分离效率,这与荧光分析的结果一致。

    图  7  不同光催化材料的阻抗图
    Figure  7.  Impedance diagrams of different photocatalytic materials

    通过探究反应物的不同摩尔比、反应温度、反应时间及pH对所制备材料的光催化性能的影响。从图8(a)~8(d)可以看出:当Bi2O3与BiOI的摩尔比为0.8∶1时,在pH=5、180℃下反应20 h得到的Bi2O3/BiOI复合光催化材料对四环素的降解效果最佳,在3 h内对四环素的降解率可达75%。

    图  8  不同摩尔比 (a)、反应温度 (b)、反应时间 (c) 及pH (d) 对Bi2O3/BiOI光催化材料性能的影响
    Figure  8.  Effects of different molar ratios (a), reaction temperature (b), reaction time (c) and pH (d) on the properties of Bi2O3/BiOI photocatalytic material

    通过在模拟太阳光照射下降解四环素来评价所制备样品的光催化性能,图9(a)为模拟太阳光照射下降解四环素的曲线图。在3 h内,BiOI、Bi2O3、Bi2O3/BiOI对四环素的降解率分别为55%、57%、75%。图9(b)为模拟太阳光照射下降解四环素的动力学曲线,Bi2O3/BiOI的动力学速率常数(0.007 min−1)分别是BiOI(0.004 min−1)、Bi2O3(0.0045 min−1)的1.75倍、1.56倍。因此,所制备出的Bi2O3/BiOI具有较高的光催化活性。

    图  9  模拟太阳光照射下不同光催化材料的降解曲线 (a) 及动力学曲线 (b)
    Figure  9.  Degradation curves (a) and kinetic curves (b) of different photocatalytic materials under simulated sunlight irradiation

    使用对苯醌(BQ)、乙二胺四乙酸二钠盐(EDTA-2Na)、异丙醇(IPA)作为·O2、h+、·OH的捕捉剂,实验结果如图10所示。BiOI对四环素的降解率分别为50%、31%、53%、,由此可以得出h+是BiOI降解四环素的主要活性物质。Bi2O3对四环素的降解率分别为55%、52%、35%,由此可以得出·OH是Bi2O3降解四环素的主要活性物质。

    图  10  捕捉BiOI (a)、Bi2O3 (b)、Bi2O3/BiOI (c) 中活性物种的柱状图
    Figure  10.  Histogram of captured active species in BiOI (a), Bi2O3 (b), and Bi2O3/ BiOI (c)

    当Bi2O3和BiOI复合后形成Z型异质结时,Bi2O3/BiOI光催化材料对四环素的降解率分别为35%、66%、66%,由此可以得出·O2是光催化材料降解四环素的主要活性物质。

    Bi2O3/BiOI异质结的形成可以提高光生电子空穴对的分离速率,从而提高光催化活性。BiOI 、Bi2O3的导带和价带可以通过下式计算:

    ECB=XEe0.5Eg
    Eg=EVBECB

    式中:X为半导体的电负性,BiOI和Bi2O3X值分别为5.94 eV 和6.23 eV;Ee为自由电子在氢标上的能量(约为4.50 eV);Eg为对应的带隙能量,由图3(b)可以得出BiOI和Bi2O3Eg值分别为1.82 eV和2.60 eV。因此,BiOI和Bi2O3的导带(CB)边缘分别位于0.53 eV和0.43 eV,BiOI和Bi2O3的价带(VB)边缘分别位于2.35 eV和3.03 eV。在可见光照射下所制备的Bi2O3/BiOI异质结被激发并生成光生载流子且BiOI比Bi2O3的CB更正。事实上,在Bi2O3/BiOI异质结中,光子能量会激发BiOI CB上的电子到更高的电位位置(−0.68 eV),因此BiOI CB上的光生电子会转移到Bi2O3的CB上。同时,Bi2O3 VB上的空穴将转移到BiOI的VB上。而Bi2O3 CB上的电子不能与O2反应生成·O2(O2/·O2=−0.33 eV),·O2是降解四环素的主要活性物质,这与捕获实验的结果不一致。结合以上结果,提出了一种更可能的光催化机制,如图11所示。BiOI和Bi2O3在可见光照射下都能产生光生电子空穴对,Bi2O3 CB上的光生电子和BiOI VB上的空穴在库仑力的作用下会重新组合。此外,BiOI的CB上的光生电子可以与O2反应生成·O2,然后·O2与TC反应,有效地实现了Bi2O3/BiOI异质结的光催化降解过程。综上所述,Bi2O3/BiOI异质结能够有效提高光生电子空穴对的分离效率,从而显著提高光催化性能。

    图  11  Bi2O3/BiOI复合光催化材料的降解机制
    Figure  11.  Degradation mechanism of Bi2O3/BiOI composite photocatalytic material
    TC—Tetracycline; Eg—Band gap

    (1) 以五水硝酸铋为原料,采用溶剂热法制备了Bi2O3/BiOI复合光催化材料,在制备过程中加入Bi2O3可以提高单一BiOI的光催化性能,在3 h内对四环素的降解率为75%,是单一BiOI降解速率的1.75倍。

    (2) BiOI、Bi2O3成功复合在一起并形成了异质结结构,Bi2O3/BiOI复合光催化材料通过提高光生电子空穴对的分离速率从而提高光催化活性。

    (3) 降解机制研究表明,·O2在降解四环素中起主要作用,且所制得的复合材料可应用于对四环素的降解,并有望进一步用于对其他抗生素的降解处理以解决实际问题。

  • 图  1   MoO3-Cu2O/g-C3N4 (CN)光催化剂的制备过程示意图

    Figure  1.   Schematic diagram of the preparation of MoO3-Cu2O/g-C3N4 (CN) photocatalysts

    DMF—N,N-dimethylformamide

    图  2   CN、1.5 MoO3/CN和1.5 MoO3-Cu2O-100/CN催化剂的 XRD图谱(a)和FTIR图谱(b)

    Figure  2.   XRD patterns (a) and FTIR spectra (b) of CN, 1.5 MoO3/CN and 1.5 MoO3-Cu2O-100/CN catalysts

    图  3   CN (a)、MoO3 (b)、1.5 MoO3/CN (c)和1.5 MoO3-Cu2O-100/CN (d)的SEM图像

    Figure  3.   SEM images of CN (a), MoO3 (b), 1.5 MoO3/CN (c) and 1.5 MoO3-Cu2O-100/CN (d)

    图  4   1.5 MoO3-Cu2O-100/CN的TEM图像(a),HRTEM图像(b),HAADF STEM图像(c)以及C (d)、N (e)、O (f)、Mo (g)和Cu元素(h)的EDX元素映射图像

    Figure  4.   TEM images (a), HRTEM images (b), HAADF STEM images (c) and EDX element mapping images of C (d), N (e), O (f), Mo (g) and Cu elements (h) of 1.5 MoO3-Cu2O-100/CN

    图  5   1.5 MoO3-Cu2O-100/CN催化剂中C (a)、N (b)、O (c)、Mo (d)和Cu (e)元素的高分辨率XPS光谱

    Figure  5.   High-resolution XPS spectra of C (a), N (b), O (c), Mo (d) and Cu (e) in 1.5 MoO3-Cu2O-100/CN catalyst

    图  6   (a) CN、1.5 MoO3/CN和1.5 MoO3-Cu2O-100/CN的UV-Vis-DRS图; (b)由Tauc计算出的CN, 1.5 MoO3/CN和1.5 MoO3-Cu2O-100/CN的带隙

    Figure  6.   (a) UV-Vis-DRS of CN, 1.5 MoO3/CN and 1.5 MoO3-Cu2O-100/CN; (b) Calculated band gap from the Tauc plot of CN, 1.5 MoO3/CN and1.5 MoO3-Cu2O-100/CN

    α—Absorption coefficient; h—Planck constant; v—Frequency

    图  7   不同光催化剂对四环素的降解曲线(a)、一级动力学曲线(b)、降解速率常数(k) (c),以及不同MoO3含量的四环素光降解效率(d)

    Figure  7.   Tetracycline degradation curves (a), first-order kinetics curves (b), and degradation rate constants (k) (c) of different photocatalysts,and tetracycline photo-degradation efficiency of with different MoO3 contents (d)

    C—Concentration; C0—Original concentration

    图  8   初始四环素浓度(a)和溶液pH值(b)对1.5 MoO3-Cu2O-100/CN光催化剂降解四环素的影响

    Figure  8.   Effects of initial tetracycline concentration (a) and solution pH (b) on the degradation of tetracycline in the presence of 1.5 MoO3-Cu2O-100/CN photocatalyst

    图  9   1.5 MoO3-Cu2O-100/CN降解四环素的稳定性循环测试(a)和降解四环素前后的XRD图谱(b)

    Figure  9.   Stability cycle test of tetracycline degradation by 1.5 MoO3-Cu2O-100/CN (a) and XRD pattern before and after degradation of tetracycline (b)

    图  10   (a) 1.5 MoO3-Cu2O-100/CN在不同清除剂存在下对四环素的降解曲线;5,5-二甲基-1-吡咯啉N-氧化物(DMPO)捕获•OH (b)和•O2 (c)与1.5 MoO3-Cu2O-100/CN复合材料的EPR光谱

    Figure  10.   (a) Degradation curve of tetracycline by 1.5 MoO3-Cu2O-100/CN in the presence of different scavengers; EPR spectra of 5,5-dimethyl-1-pyrroline N-oxide (DMPO) to capture •OH (b) and •O2 (c) with 1.5 MoO3-Cu2O-100/CN composite

    IPA—Isopropanol; TEOA—Trolamine; AA—Ascorbic acid; EDTANa—Ethylene diamine tetracetic acid

    图  11   CN、1.5 MoO3/CN和1.5 MoO3-Cu2O-100/CN样品的PL光谱(a)、瞬态光电流响应(b)和EIS谱图(c)

    Figure  11.   PL spectra (a), transient photocurrent responses (b), and EIS spectra (c) of CN, 1.5 MoO3/CN and 1.5 MoO3-Cu2O-100/CN samples

    Rct—Charge–transfer resistance; Rs—Electrolyte solution resistance; Wsl—Warburg impedance; CPE—Constant phase angle element ; Z'—Image part of impedance; Z''—Imaginary part of impedance

    图  12   不同MoO3含量下样品的瞬态光电流响应(a)和EIS谱图(b)

    Figure  12.   Transient photocurrent responses (a) and EIS spectra (b) of the samples with different MoO3 contents

    图  13   MoO3 (a)和Cu2O (b)样品的(αhν)2的曲线;CN (c)、MoO3 (d)和Cu2O (e)的XPS价带谱

    Figure  13.   (αhν)2 vs. radiation energy (hv) plots for MoO3 (a) and Cu2O (b) samples; Valence-band XPS spectra of the sample CN (c), MoO3 (d) and Cu2O (e)

    图  14   1.5 MoO3-Cu2O-100/CN复合催化剂的反应机制

    Figure  14.   Possible reaction mechanism of 1.5 MoO3-Cu2O-100/CN composite catalyst

    NHE—Normal Hydrogen Electrode; TC—Tetracycline

    图  15   1.5 MoO3-Cu2O-100/CN 催化剂降解四环素的路径示意图

    Figure  15.   Tetracycline degradation pathway by 1.5 MoO3-Cu2O-100/CN catalyst

    表  1   MoO3-Cu2O/g-C3N4 (CN)样品名及其成分配比

    Table  1   Sample name of MoO3-Cu2O/g-C3N4 (CN) and composition ratio

    Sample Added content/
    mg
    Electrodeposition
    time/s
    MoO3 Cu2O
    0.5 MoO3/CN 50
    1.0 MoO3/CN 100
    1.5 MoO3-Cu2O-50/CN 150 50
    1.5 MoO3-Cu2O-100/CN 150 100
    1.5 MoO3-Cu2O-150/CN 150 150
    2.0 MoO3/CN 200
    2.5 MoO3/CN 250
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    其他类型引用(8)

  • 其他相关附件

  • 目的 

    随着抗生素的频繁使用,导致了一系列的水污染问题,直接对人类生态系统构成潜在威胁。由于抗生素具有结构稳定的特性,传统废水处理方法无法将其完全去除。因此,开发一种高效、可持续去除抗生素的方法对于水污染的治理起着至关重要的作用。

    方法 

    高级氧化过程(AOPs)因其能够产生强氧化性自由基并有效分解污染物而被广泛应用于水资源治理。光催化技术作为一种能产生高氧化性自由基的方法,主要利用光催化剂在光照时生成的活性氧(ROS)来进行氧化分解污染物,具有高效、环保的优势。石墨相氮化碳(g-CN)由于成本低、稳定性高且带隙合适等优点,成为光催化研究的热点。然而,原始g-CN的电子与空穴复合速度快且表面积低,严重限制了其在光催化领域的应用。至今,构建Z型异质结不仅能促进载流子的有效分离,还能保持光生电子和空穴的强氧化还原能力,是显著提升原始g-CN光催化活性的有效途径之一。所以,本工作通过水热法先在g-CN(CN)上原位生长MoO,继而在其表面电沉积CuO构建了MoO-CuO/CN三相复合光催化剂。采用XRD、SEM、TEM、XPS和FTIR等手段对催化剂进行表征,证明了复合光催化剂的成功制备。

    结果 

    以四环素作为目标污染物,研究了所制备光催化剂对四环素的降解效果。经研究表明,将MoO与CN复合后,降解四环素的活性明显提升,继续负载CuO,降解四环素的能力进一步提升。在150 min内,最优样品1.5 MoO-CuO-100/CN的四环素降解率可达97.75%。采用自由基捕获实验及电子顺磁共振光谱(EPR)对机理进行了探究,证实了羟基自由基(·OH)和超氧自由基(·O)是光催化过程的主要活性物质。综合各项测试计算 CN、MoO 和CuO 的价带和导带位置,表明三相复合光催化剂形成了双Z型异质结。另外,光电化学测试表明,与原始CN相比,三相复合材料具有最小的荧光、最大的光电流和最小的阻抗值,这表明质结构的构建不仅降低了光生电子与空穴的复合率,还有利于界面电荷的转移,提高四环素的降解效果。最后,采用色质联用(LC-MS)分析了四环素光催化降解过程中的中间产物,进一步验证了羟基自由基(·OH)和超氧自由基(·O)是光催化过程的主要活性物质。

    结论 

    在可见光下,1.5 MoO-CuO-100/CN复合材料对四环素的降解效果最佳,150 min时降解率为97.75%,分别是CN(45.28%)和1.5 MoO/CN(63.24%)的2.2和1.5倍。采用自由基捕获实验及电子顺磁共振光谱(EPR)对机理进行了探究,证实了羟基自由基(·OH)和超氧自由基(·O)是光催化过程的主要活性物质。综合各项测试计算 CN、MoO 和CuO 的价带和导带位置,表明三相复合光催化剂形成了双Z型异质结。同时光催化活性的提高主要归因于双Z机制的构建,拓宽了可见光吸收范围,保留了氧化还原能力较高的空穴电子,降低了光生电子与空穴的复合率。稳定性实验结果表明制备的催化剂在经过四次循环后,对四环z素的降解率仍达到90%以上,具有优异的稳定性,可循环使用。该工作可以为双Z型异质结的构建提供理论指导。

  • 随着抗生素的频繁使用,导致了一系列的水污染问题,直接对人类生态系统构成潜在威胁。由于抗生素具有结构稳定的特性,传统废水处理方法无法将其完全去除。而光催化技术作为一种能产生高氧化性自由基的方法,近年来在降解有机物方面得到广泛应用。石墨相氮化碳(g-C3N4)具有成本低、稳定性高且带隙合适等优点,成为光催化领域研究的热点。然而,原始g-C3N4的电子与空穴复合速度快且表面积低,严重限制了其在光催化领域的应用。

    因此,本工作通过水热法先在g-C3N4(CN)上原位生长MoO3,继而在其表面电沉积Cu2O构建了MoO3-Cu2O/CN双Z型三元复合光催化材料。复合材料的制备不仅拓宽了可见光吸收范围,保留了氧化还原能力较高的空穴电子,还降低了光生电子与空穴的复合率,能显著提升材料的光催化降解活性。经研究表明,将MoO3与CN复合后,降解四环素的活性明显提升,继续负载Cu2O,降解四环素的能力进一步提升。在150 min内,最优样品1.5 MoO3-Cu2O-100/CN的四环素降解率可达97.75%。并且样品经过四次循环使用后,四环素的降解率没有明显降低,仍达到90%以上。通过对反应机制进行探究,发现羟基自由基(·OH)和超氧自由基(·O2-)是光催化过程的主要活性物质,与色质联用(LC-MS)检测的四环素降解过程中相吻合。

    (a)不同光催化剂对四环素的降解曲线; (b) 1.5 MoO3-Cu2O-100/CN对四环素降解的四次稳定性循环测试

图(15)  /  表(1)
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出版历程
  • 收稿日期:  2024-04-10
  • 修回日期:  2024-06-01
  • 录用日期:  2024-06-07
  • 网络出版日期:  2024-06-25
  • 发布日期:  2024-06-19
  • 刊出日期:  2025-03-14

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