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内嵌弹性区和结合力模型在薄膜/基底界面断裂中的应用

李然 余寿文

李然, 余寿文. 内嵌弹性区和结合力模型在薄膜/基底界面断裂中的应用[J]. 复合材料学报, 2002, 19(3): 98-104.
引用本文: 李然, 余寿文. 内嵌弹性区和结合力模型在薄膜/基底界面断裂中的应用[J]. 复合材料学报, 2002, 19(3): 98-104.
LI Ran, YU Shou-wen. APPLICATION OF EMBEDDED ELASTIC ZONE AND COHESIVE MODEL TO THIN FILM/SUBSTRATE INTERFACIAL FRACTURE[J]. Acta Materiae Compositae Sinica, 2002, 19(3): 98-104.
Citation: LI Ran, YU Shou-wen. APPLICATION OF EMBEDDED ELASTIC ZONE AND COHESIVE MODEL TO THIN FILM/SUBSTRATE INTERFACIAL FRACTURE[J]. Acta Materiae Compositae Sinica, 2002, 19(3): 98-104.

内嵌弹性区和结合力模型在薄膜/基底界面断裂中的应用

基金项目: 国家自然科学基金(19891180(3)); 清华大学基础研究基金(JZ2000-007)资助项目
详细信息
  • 中图分类号: TB330.1

APPLICATION OF EMBEDDED ELASTIC ZONE AND COHESIVE MODEL TO THIN FILM/SUBSTRATE INTERFACIAL FRACTURE

  • 摘要: 薄膜/基底结构是微电子学和材料科学中广泛应用的典型结构。由于加工工艺中材料力学、热学性能失配等原因导致的薄膜中出现的残余应力,是界面裂纹的萌生和扩展的重要原因。采用三参数(Γ0, /σy,t)的修正的断裂过程区结合力模型,讨论了在塑性氛围下裂尖解理断裂的过程,裂尖应力分布,裂尖形貌和表征裂纹尖端断裂过程区特征参数对断裂过程的影响,并应用到均质金属薄膜/陶瓷基底结构中残余应力导致界面裂纹起裂和扩展的全过程分析中。

     

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出版历程
  • 收稿日期:  2000-07-22
  • 修回日期:  2001-12-03
  • 刊出日期:  2002-06-15

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