留言板

尊敬的读者、作者、审稿人, 关于本刊的投稿、审稿、编辑和出版的任何问题, 您可以本页添加留言。我们将尽快给您答复。谢谢您的支持!

姓名
邮箱
手机号码
标题
留言内容
验证码

SiCP/ZA22 复合材料界面反应层形成机制

胡海明 张维平 胡汉起

胡海明, 张维平, 胡汉起. SiCP/ZA22 复合材料界面反应层形成机制[J]. 复合材料学报, 1998, 15(2): 27-30.
引用本文: 胡海明, 张维平, 胡汉起. SiCP/ZA22 复合材料界面反应层形成机制[J]. 复合材料学报, 1998, 15(2): 27-30.
Hu Hai-ming, Zhang Wei-ping, Hu Han-qi. FORMATION MECHANISM OF INTERFACIAL REACTION LAYER IN SiCP/ZA22 COMPOSITES[J]. Acta Materiae Compositae Sinica, 1998, 15(2): 27-30.
Citation: Hu Hai-ming, Zhang Wei-ping, Hu Han-qi. FORMATION MECHANISM OF INTERFACIAL REACTION LAYER IN SiCP/ZA22 COMPOSITES[J]. Acta Materiae Compositae Sinica, 1998, 15(2): 27-30.

SiCP/ZA22 复合材料界面反应层形成机制

基金项目: 北京市青年科技骨干培养基金资助项目
详细信息
  • 中图分类号: TB331

FORMATION MECHANISM OF INTERFACIAL REACTION LAYER IN SiCP/ZA22 COMPOSITES

  • 摘要: 通过电镜观察和扫描能谱分析, 发现在SiCP/ ZA 22复合材料中,SiC 颗粒和ZA 22合金富铝相α-A l 两相界面上存在着层状反应物MgAl2O4, 并对其产生条件进行了分析。结果表明: 在该复合材料制备温度范围内满足产生MgAl2O4的热力学条件, 反应层厚度符合S = A t 规律, 最终反应物量主要与合金中的M g 含量以及SiC 颗粒表面的SiO2层厚度有关。

     

  • 加载中
计量
  • 文章访问数:  1281
  • PDF下载量:  698
  • 被引次数: 0
出版历程
  • 刊出日期:  1998-06-25

目录

    /

    返回文章
    返回