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硅烷偶联剂与SiO2表面化学反应的研究

吴叙勤 甘树榜 张元民

吴叙勤, 甘树榜, 张元民. 硅烷偶联剂与SiO2表面化学反应的研究[J]. 复合材料学报, 1985, 2(4): 1-Ⅰ.
引用本文: 吴叙勤, 甘树榜, 张元民. 硅烷偶联剂与SiO2表面化学反应的研究[J]. 复合材料学报, 1985, 2(4): 1-Ⅰ.
Wu Xnqin, Gan Shubang, Zhang Yuanmin. A STUDY OF SURFACIAL REACTION BETWEEN SILANES AND FUMED SiO2[J]. Acta Materiae Compositae Sinica, 1985, 2(4): 1-Ⅰ.
Citation: Wu Xnqin, Gan Shubang, Zhang Yuanmin. A STUDY OF SURFACIAL REACTION BETWEEN SILANES AND FUMED SiO2[J]. Acta Materiae Compositae Sinica, 1985, 2(4): 1-Ⅰ.

硅烷偶联剂与SiO2表面化学反应的研究

A STUDY OF SURFACIAL REACTION BETWEEN SILANES AND FUMED SiO2

  • 摘要: 本文用气相色谱和傅里叶红外光谱直接检测了作为玻璃纤维模型的气象沉积SiO2与硅烷偶联剂-CCl4体系所进行的反应.证明了这两相间的界面上存在着化学反应,存在着以化学键相联接的界面层结构.从实验结果推断出,硅烷偶联剂本身经均缩聚反应后,生成-Si-O-Si-键的红外吸收峰在1056~1063cm-1,而硅烷偶联剂与气相沉积SiO2上硅羟基发生共缩聚反应后生成的-Si-O-Si-键红外吸收峰在1105~1120cm-1.

     

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出版历程
  • 收稿日期:  1985-04-01
  • 刊出日期:  1985-12-01

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