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工艺参数对化学气相沉积ZrC涂层形貌和组分的影响

工艺参数对化学气相沉积ZrC涂层形貌和组分的影响[J]. 复合材料学报, 2010, 27(5): 62-67.
引用本文: 工艺参数对化学气相沉积ZrC涂层形貌和组分的影响[J]. 复合材料学报, 2010, 27(5): 62-67.
Effect of deposition parameters on morphology and composition of chemical vapor deposited ZrC coatings[J]. Acta Materiae Compositae Sinica, 2010, 27(5): 62-67.
Citation: Effect of deposition parameters on morphology and composition of chemical vapor deposited ZrC coatings[J]. Acta Materiae Compositae Sinica, 2010, 27(5): 62-67.

工艺参数对化学气相沉积ZrC涂层形貌和组分的影响

基金项目: 国家自然科学基金(90716023)
详细信息
  • 中图分类号: TB332

Effect of deposition parameters on morphology and composition of chemical vapor deposited ZrC coatings

  • 摘要:
    利用ZrCl4-Ar-CH4-H2体系, 采用化学气相沉积法(CVD)制备了ZrC涂层。研究了不同基底、 沉积温度、 先驱体中CH4与ZrCl4浓度比(C/Zr)对涂层形貌、 物相和组分的影响规律和作用机制。结果表明, 不同基底对该体系沉积的ZrC涂层形貌没有显著影响。沉积温度对ZrC涂层形貌影响较大, 当温度从1100℃增加到1350℃时, 涂层形貌由片状转变到荔枝状, 且涂层中的C含量随温度的升高而增加。先驱体中的C/Zr比对涂层形貌和组分也有重要影响, 当C/Zr比从8.5减小到3.5时, 涂层由疏松多孔形貌经菜花状向玻璃态形貌演变, 且涂层中的C含量随C/Zr比的减小而减少。

     

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出版历程
  • 收稿日期:  2009-09-28
  • 修回日期:  2009-12-07
  • 刊出日期:  2010-10-15

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